設備簡述
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爐體尺寸 |
φ1500*H1500 |
有效空間 |
φ1250*H1200 |
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工件最大直徑*數(shù)量 |
φ240*8 |
標準配置 |
陰極弧11個/中頻圓柱靶2對 |
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工作電壓/頻率 |
380V/50Hz |
實際功率 |
100KW |
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應用技術 |
ZP+ARC（選配） |
靶材數(shù)量 |
圓柱靶4個/弧靶11個 |
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極限壓力 |
5.0×10-4Pa |
漏率 |
<10-3Pa.L/s |
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抽氣時間 |
大氣到4X10-3 < 25分鐘 |
真空系統(tǒng) |
分子泵、羅茨泵、旋片泵 |
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標準涂層效果 |
IP黑，玫瑰金，IP金，寶石藍，香檳金，炫銀，咖啡色，七彩， |
電源類型 |
脈沖偏壓電源、中頻磁控電源 |
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槍黑色，鋯金，玫瑰紅等 |
專用真空弧電源 |
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工件轉架結構 |
下轉架結構 |
真空室結構 |
立式單開門 |
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生產(chǎn)周期 |
0.5-1.5小時/爐 |
外圍尺寸 |
L3600*W3100*H2600mm |
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控制方式 |
手動+半自動+全自動一體化 |
配套條件 |
循環(huán)水壓力：2-3KG/CM3 |
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工業(yè)PC+觸摸屏+PLC |
水量：10T/H |
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自己開發(fā)的鍍膜專用控制軟件 |
壓縮空氣：4-6 KG/CM3 |
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工作氣體 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
應用 |
衛(wèi)浴類產(chǎn)品鍍膜 |
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備注 |
真空室尺寸，外圍尺寸，設備外觀等可按客戶產(chǎn)品或及特殊工藝要求訂做，以上信息僅供參考。 |
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